청정 스테인레스 스틸 튜빙의 응용 시나리오
(V+V/VIM+VAR 초고정도 316LVV를 포함한다)
주요 특징
깨끗한 스테인레스 스틸 튜브는 BA (밝은 연금) 또는 EP (전자 닦은) 내부 표면, 낮은 입자 생성, 낮은 추출 가능성, 헬륨 누출 테스트 기능 및 부식 저항성을 갖추고 있습니다.
V+V는 소재를 정제하는 데 사용되는 VIM+VAR 이중 진공 녹화 프로세스를 의미합니다. 가장 까다로운 초고 순수 (UHP) 애플리케이션을 위해 설계되었습니다.주로 반도체 제조 및 고품질 정밀 가스 공급 시스템.
1반도체 및 디스플레이 패널
(V+V 튜브의 주요 응용)
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UHP 특수가스 파이프링 웨이퍼 공장, 시라인, 암모니아, 수소 염화물, 질소 삼화물, 그리고 다른 5N8N 가스와 같은 고순도 공정 가스를 처리.
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CVD, ALD, 에칭, 확산 오븐 및 관련 프로세스를 위한 가스 공급 시스템.이 시스템은 SEMI F20 요구 사항을 준수하고 생산량을 보호하기 위해 입자와 금속 이온 추출 물질을 엄격하게 제어합니다..
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초순수 (UPW) 전송 라인, 일반적으로 18.2 MΩ·cm로 웨이퍼 청소 루프를 위해.
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LCD/OLED 생산 라인에서 고순도 화학 및 운반 가스 분배 시스템
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반도체 장비 내의 내부 가스 라인, 진공 라인 및 밸브 다중 기본 파이프링
2바이오 의약품 및 바이오 기술
GMP / FDA 환경
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주입용 물 (WFI) 및 정수 순환 시스템
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백신, 단종 항체, 항생제 및 API를 위한 제품 전송 파이프 및 바이오 반응기 연결.
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CIP 청소 및 SIP 살균을 필요로하는 시스템 121 ° C에서 증기. 부드럽고 균열 없는 내부 표면은 바이오 필름 부착을 최소화하는 데 도움이됩니다.
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연구실과 연구개발 플랫폼에서 고순도 반응기 파이프링
3식품 및 음료
(위생적으로 깨끗한 파이프; V+V가 거의 필요하지 않습니다.)
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유제품, 맥주, 주스, 향신료, 탄산 음료 생산을 위한 제품 전송 라인.
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식품 첨가물, 향신료 및 CIP 청소 시스템을 위한 파이프, 식품 위생 요구 사항을 충족합니다.
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일반적으로 위생용 304 또는 316L 파이프를 사용합니다.
4실험실, 분석 기구 및 연구 청정 가스 시스템
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가스 염색기 및 질량 스펙트모터와 같은 정밀 분석 기기, 질소, 아르곤 및 수소를 포함한 운반 가스 파이프.
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깨끗한 연구, 화학 및 물리 실험실에서 고 순수 공기 및 무성 가스를 위한 유통 시스템
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깨끗한 압축공기와 건조공 파이프매우 낮은 이슬점과 기름이나 입자가 없는 것도 이 범주에 속한다. BA 등급의 깨끗한 스테인레스 스틸이 일반적으로 사용된다.V+V EP 튜브는 예외적으로 엄격한 요구 사항에 따라 선택됩니다..
5의료 시스템
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중앙 산소, 의료 진공 및 병원, 수술실 및 ICU의 의료 압축 공기 파이프.
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다이아리시 장비와 의료 정수 시스템용 유체 선
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V + V 초고 순수 물질은 일반적으로 임플란트 수준의 부품에 예약되어 있습니다. 표준 316L 깨끗한 튜브는 일반적으로 전형적인 병원 파이프에 충분합니다.
6태양광, 리?? 배터리 및 신 에너지 제조
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광전기 실리콘 웨이퍼 성장과 발각을 위한 고순도 가스 공급
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고순도 무성 가스 보호 및 리?? 배터리 생산 라인에서 전해질 전송 파이프.
7다른 고급 산업용
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미세 화학물질: 낮은 금속 이온 추출 물질이 필요한 고 순수 반응제 및 용매.
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원자력 및 항공 우주: 부식 저항성, 저가스 배출, 비자기적 중요한 유체 시스템을 위한 V+V UHP 튜브
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첨단 기기 및 진공 장비: 센서 및 고급 기기의 진공 라인 및 가스 공급/ 샘플링 라인.
빠른 선택 가이드
| 적용 | 추천된 튜브 등급 | 내용 에 관한 참고 |
|---|---|---|
| 반도체 UHP 특수 가스, 최상위 진공 시스템 또는 정밀 센서 가스 라인 | V+V (VIM+VAR) + EP 전자기 | 316LVV 매우 낮은 불순물; Ra ≤ 0.2 μm 또는 그 이하; 가장 높은 비용 |
| 의약품, 표준 깨끗한 실험실, 건조한 깨끗한 압축 공기 | EP 전압 또는 BA 밝게 반열 | 표준 316L: 비용 효율성 |
| 식품 및 음료용 위생 파이프 | 위생용 AP/BA 용접 파이프 | 304/316L; 위의 범주보다 낮은 요구 사항 |
주요 요점
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V+V는 표면 처리가 아니라 진공 녹음으로 이루어진 물질 정화 과정입니다.
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표면 가공은 BA 또는 EP 가공을 통해 나중에 달성됩니다. 반도체 UHP 파이프 시스템에 EP 가공과 결합 된 V + V 물질이 필요합니다.
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깨끗한 압축 공기를 위해 BA 튜브는 대부분의 프로젝트에 적합합니다.또는 센서 및 정밀 분석 장비에 가스가 필요합니다..



